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29、熔噴布加熱設備
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熔噴布真空爐

產品詳情

1.jpg

  一:產品介紹:

  真空清洗爐適用于化纖行業的滌淪、錦淪和丙淪生產用的組件、噴絲板、過慮芯等清潔處理,也適用于塑料擠出行業的模具清潔之用.真空清洗爐利用高分子聚合物在300度左右時可熔融,高于300度隔絕空氣可裂解憔化,高于400度在有少量空氣并有一定真空度的環境中可完全氧化的特性,先將粘有高分子污物的工件加熱到300度(根據工藝要求擬定),使工件上數量較多的高分子聚合物熔化后流淌到爐膛下部的收集容器內,然后再將爐溫升到400-500度,同時打開真空泵,并通入少量新鮮空氣,使剩余的聚合物充分氧化,生成的二氧化碳,經水噴淋后通過水環式真空泵抽吸,和水一起排出爐外。

  真空清洗爐均采用不銹鋼電熱管真空爐膛內直接加熱,密封部位均采用耐高溫密封圈,不需水冷卻保護,所以,真空清洗爐加熱功率小,熱效率高,升溫速度快,溫度均勻性好,加熱器檢查維修方便,較爐外帶式加熱器加熱節電40%,節水60%,并且,克服了由于水冷卻導致的爐內溫度均勻性差,局部清洗效果不好等缺陷。真空清洗爐具有完整的自動化工作性能,只要對程序溫度控制儀輸入擬定的工作程序,設備即能進行自動化清洗工作,中途無需人工干預,并具有超溫、缺相和斷水或低水壓報警功能。

  二:技術參數:

  首先看一下真空清洗爐的工作時段表:

2.png

  1、在0-A段,真空清洗爐啟動,60分鐘將爐內溫度升溫到300℃;

  2、在A-B段,真空清洗爐內溫度在300℃狀態下保溫60分鐘,將工件上80%以上的高聚物熔融流進廢料收集罐內。

  3、在B-C段,爐溫升至310℃時,此時水閥和真空泵自動打開,爐溫持續升溫,升到450℃。

  4、在C-D斷,真空清洗爐爐內溫度達到450℃后保溫300分鐘,使剩余的少量高聚物在真空、高溫、低氧的狀態下,充分氧化裂解。這是清洗能否干凈的 主要階段。這段時間內,爐內的高聚物發生的化學反應為:CmHn + O2 -CO2↑+ H2O↑。此時,通過水環式真空泵的抽吸,將爐內生成的二氧化碳和水蒸氣經水噴淋洗滌器洗滌后,與水一起排出爐外。只要 CD 段有足夠時間,被清洗件決不會沾有有機物。

  5、C-D段運行結束后,程序即全部結束,此時真空清洗爐即刻斷水斷電,僅有儀表通電,進入自然冷卻狀態,不需人為干預進行操作。

  三:真空煅燒清洗爐的工作原理:

  在低壓真空中灼燒,能使多種化纖聚合物發生分解,殘留物在同一爐中被水沖刷干凈,能自動控制,操作方便。

  真空煅燒清洗爐的清洗效果:

3.png

  四:真空清洗爐工藝流程

4.png

  技術參數

型號

爐膛尺寸
(長X寬X深)

外型尺寸
(長X寬X深)

使用功率:
 KW
   加熱/真空泵

真空度MPa

耗水量
m3/h

控溫精度
±℃

LZK-A

φ500x600

2000x1800x2100

18 / 2.2

-0.07-0.085

0.23

2

LZK-B

φ600x800

2200x2000x2300

21 / 2.2

-0.07-0.085

0.23

2

LZK-C

φ800x1000

2600x2300x2500

27 / 3

-0.07-0.085

0.28

2

LZK-D

φ1000x1200

2800x2500x2700

32 / 4

-0.07-0.085

0.45

2

JZK-A

600x400x400

1600x1200x1000

18 / 2.2

-0.07-0.085

0.23

2

JZK-B

800x600x600

1800x1300x1100

21 / 3

-0.07-0.085

0.28

2

JZK-C

1000x800x600

2100x1500x1300

27 / 3

-0.07-0.085

0.28

2

JZK-D

1200x800x800

2100x1500x1600

32 / 4

-0.07-0.085

0.45

2

WZK-A

φ500x600

2000x1000x1300

18 / 2.2

-0.07-0.085

0.23

2

WZK-B

φ500x600

2400x1100x1600

21 / 2.2

-0.07-0.085

0.23

2

WZK-C

φ500x600

2600x1200x1800

27 / 3

-0.07-0.085

0.28

2

WZK-D

φ500x600

2800x1400x2000

32 / 4

-0.07-0.085

0.45

2

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